TSV1300型精密光学真空镀膜

TSV1500精密光学真空镀膜

TSV2050精密光学真空镀膜

TSV900精密光学真空镀膜

TSV550研发专用电子束蒸发真空镀膜

应用范围

该设备专门为精密光学薄膜器件镀膜生产而设计，镀制增透膜、带通膜和截止膜等。采用e型电子枪蒸发源，可整发各种高熔点金属和氧化物，可在玻璃、塑料、陶瓷基体上镀制各种多层薄膜，如：红外膜、宽带增透膜、分光膜、冷光膜、IR-CUT膜、干涉截止滤光片、偏振膜、电学膜，适用于眼镜、光学镜头、精密光学元件、激光和电子行业的大规模工业生产。

主要特点

电子枪输出功能稳定，特殊结构设计有效杜绝二次电子的产生和电子枪打火。

转动采用磁流动引入，长期运转密封可靠。

工件转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳可靠，径向和轴向跳动3-5mm。

采用PLC+触摸屏控制，多重泵阀水电互锁互保护，可全程自动控制，包括真空系统，烘烤系统，整个蒸发镀膜过程。

安装采用全程四级质谱监控和氮质谱检漏，真空密封性好，设备工艺稳定可靠。

所有零部件采用国内知名厂家产品，电器元件采用进口或合资企业产品，设备24小时连续长期运行可靠稳定。

控制系统

通过长期对客户现场应用需求的采集，我们开发出了操作简洁，但功能强大的控制系统。

多样的自动启动机制几乎可以免去整个生成过程的人工干预，从而实现媲美进口设备的“一键生产”。

12个埚位可以单独设置束斑状态，自动工艺时即使不同特性的材料均能获得平稳的蒸发速率。

自动熔料可对光斑轨迹、大小和束流等参数进行灵活设置，包括熔料是否給入氧气等，几乎能满足市面所有常用材料的自动预熔。

基本参数

立式前开门结构，不锈钢真空室Φ1300x1500mm

极限真空：1x10-4Pa，空载清洁真空系统，300°烘烤后。

恢复真空时间：大气至4x10-3Pa≤15min。

大抽速主泵，KT-630型扩散泵（18000L/S）两台，配备防湍流装置。

工件转动：采用磁流体密封转动装置，转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳可靠。

工件烘烤：桶状上烘烤，三点控温，烘烤温度可达350°。

永磁E型电子枪，枪功率10KW/支；可配置单枪或双枪，多穴坩埚和环形坩埚。

配备美国Inficon公司生产的SQC310C或IC6型石英晶体膜厚控制仪。

10英寸触摸屏和欧姆龙（PLC）编程控制器，对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、膜厚监控系统等进行监测和控制，可采用自动和手动两种模式。

可选配Φ16CM的离子源或深冷低温冷阱。